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ALD原子層沉積技術的優勢主要在以下幾點

ALD原子層沉積技術的優勢主要在以下幾點
原子層沉積技術的優勢主要在以下幾點:1.原子層沉積是逐層沉積,具有完好的包覆性及自限性;2.前驅體源蒸汽壓較高,能夠與暴露表面各個地方充分接觸,尤其在對高寬比(或高寬深比,達1:2000以上)的內表面薄膜沉積具有無可比擬的優勢;3.原子層沉積技術工藝配方穩定,厚度取決于其循環脈沖次數,控制簡單,對沉積氣壓及氣體流速等均無嚴格要求;4. 沉積溫度低,適用于多種材料生長;5. 適合于大批量工業生產;6. 成本低。

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